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    全自動單站化學吸附儀

    簡要描述:CM8310系列全自動單站化學吸附儀基于動態技術,可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。

    • 產品型號:CM8310系列
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2023-10-24
    • 訪  問  量:1389

    詳細介紹

    品牌其他品牌價格區間面議
    儀器種類化學吸附儀產地類別國產
    應用領域化工

     

    CHEMIMASTER8320系列全自動單站化學吸附儀簡介

    chemiMaster 8320(CM8320)系列全自動單站化學吸附儀-儀器基于動態技術,可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。


    儀器主要技術參數及優勢

    ●單站設計,可升級雙站,管路并聯結構設計
    ●MFC數量:2
    ●TCD數量:1個
    ●反應爐工作溫度范圍:室溫~1200℃,可選配低溫裝置
    ●反應爐溫度測控方式:采用“床溫”和“爐溫”雙點測控方式 
    ●樣品溫度測控方式:獨立的溫度傳感測量與控制
    ●檢測器類型:線性度良好的萊鎢合金高靈敏熱導檢測器TCD 
    ●儀器內部整體保溫:最高可達300℃
    ● 氣體管路數:8路氣體,自由切換
    ● 氣體流速范圍:5~100 SCCM
    ● 軟件顯示:程序升溫實時顯示,閥門狀態實時顯示
    ●質譜取氣端口:位于樣品管出氣口位置,避免氣流干擾
    ● 安全提醒:具有系統危險狀態報警功能
    ●多組分競爭性氣體吸附,可以進入4路氣體
    ● 蒸汽發生器: 可以選配蒸汽發生器,可以進行各種蒸汽化學吸附
    ● LOOP環:可以選配3種體積以上的LOOP環,最小體積150微升
    ● 管路材質和管徑:配置1/8 英寸的SS 316不銹鋼管路和自動六通閥 
    ● 管路保溫:儀器內部所有管線和控制閥門均加熱保溫設計 
    ●長寬高:110CM*63CM*83CM
    ●功率:1500瓦
    ●重量:150kg

    儀器主機

    儀器選型表
                   
    競爭性吸附
     
    通過TPD或脈沖滴定等過程,可以測試樣品對于特定氣體吸附量。但在實際應用中,樣品所接觸到的氣氛通常更為復雜,不同氣體同時與樣品接觸時,吸附能力并非簡單的加和關系,而有可能表現出不同組分的競爭關系(X組分的存在有可能抑制樣品對于Y組分的吸附)或協調關系(X組分的存在有可能促進樣品對于Y組分的吸附)。因此對于實際應用場景,有必要針對更為復雜的氣體配比條件,測試樣品對于多組分氣體的實際吸附能力。
     
    TPD:程序升溫脫附

    樣品的表面活性位(例如酸中心)吸附探針分子(例如NH3)后,在載氣吹掃下進行程序升溫,記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPD測試譜圖。譜圖中探針分子的脫附峰的溫度對應活性中心的強度,譜圖中探針分子的脫附峰的面積對應活性中心的數量。

    TPR/TPO:程序升溫還原/程序升溫氧化

    TPR用于表征金屬催化劑的還原性。用一定比例的H2/Ar混合氣體作為載氣流過樣品床層并按照一定速率程序升溫。記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPR測試譜圖。譜圖中還原峰的溫度對應金屬中心的還原性能,譜圖中還原峰的面積對應金屬中心還原過程的耗氫量。
    TPO與TPR類似,用氧化性氣體代替還原性氣體,用于測試金屬中心的氧化性能。

    脈沖滴定

    以脈沖方式向樣品表面定量注入特定的氣體,記錄載氣濃度的變化,未被吸附的氣體將流過樣品床層并被檢測器記錄。記錄載氣濃度的變化得到脈沖滴定譜圖,其中記錄到的峰對應于未被吸附的氣體的量,脈沖的次數對應于總脈沖量,兩者差減就是樣品的吸附量。脈沖滴定用于表征活性金屬面積,分散度,平均晶粒尺寸等參數。

     

     

     

     

     

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